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此刻，含氟蚀刻气体是一把无形的“刀”，被宽泛利用于半导体或LCD前段造程，甚至能够在微米厚的薄膜上刻出纳米级的沟槽。你能脑补那个画面吗？

那么，含氟蚀刻气体都有哪些？它们又是若何进行工作的呢？

蚀刻所用气体称蚀刻气体, 通常多为氟化物气体, 例如四氟化碳、全氟丁二烯、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。

含氟蚀刻气体是电子气体的一个沉要分支，是超大规模集成电路、平面显示器件、太阳能电池，光纤等电子工业出产不成或缺的原资料，宽泛利用于薄膜、蚀刻、掺杂、气相沉积、扩散等半导体工艺。在国度发展鼎新委《产业结构调整领导目录(2011年本)(建改)》中，电子气体被列入国度沉点激励发展的产品和产业目录。其重要种类见表1。

表1

蚀刻就是把基片上无光刻胶遮掩的加工表表如氧化硅膜、金属膜等蚀刻掉, 而使有光刻胶遮掩的区域保留下来, 这样便在基片表表得到所必要的成像图形。蚀刻的根基要求是, 图形边缘整齐, 线条清澈, 图形变换差幼, 且对光刻胶膜及其遮掩；さ谋肀砦尬Ｏ蘸妥晔。

蚀刻方式有湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。干法蚀刻由于蚀刻方向性强、工艺节造精确、方便、无脱胶景象、无基片危险和沾污, 所以其利用领域日益宽泛。

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